SK하이닉스 "ASML 개발용 EUV 1대 보유…2Y 나노급 공정에서 적용"

[박계현기자] SK하이닉스는 26일 열린 2분기 실적 관련 컨퍼런스콜에서 업계의 450mm 웨이퍼용 노광장비 개발동향과 관련 "현재 ASML사의 개발용 EUV 한 대를 가지고 있다"며 "양산용 EUV는 단계적으로 구입하기 위해 현재 ASML사와 논의 중"이라고 밝혔다.

연구개발을 총괄하는 박성욱 부사장은 "D램 2Y 나노급부터 EUV가 준비되면 양산용으로 도입하게 될 것"이라면서도 "현재 EUV의 스루풋(처리량)이 좋지 않아 1X 나노급 레벨부터 적용하게 될 가능성도 있다"고 설명했다.

박 부사장은 "이는 확정된 것이 아니며 스루풋이 생각보다 빨리 개선되면 2Y 나노급부터 적용할 가능성도 있다"고 전했다.

박 부사장은 "최근 인텔의 ASML 투자가 SK하이닉스의 EUV 구매에 크게 영향을 주진 않을 것으로 예상하고 있다"며 "(인텔의 지분참여는) EUV 스루풋을 올리고, 개발에 더 큰 도움이 될 것으로 기대하고 있다"고 덧붙였다.