[이경은기자] 삼성전자가 화성사업장에 2조2천500억원 규모의 시스템반도체 생산라인을 새롭게 짓기로 결정했다고 7일 공시했다.
투자금액은 자기자본 대비 2.53%다. 시스템반도체 수요 증가에 대응하는 것이 목적이다.
삼성전자 측은 이번 투자에 대해 "300mm 웨이퍼 라인을 통해 20나노와 14나노의 최첨단 공정을 적용한 모바일AP(애플리케이션 프로세서) 제품을 주력으로 생산할 계획"이라고 설명했다.
[이경은기자] 삼성전자가 화성사업장에 2조2천500억원 규모의 시스템반도체 생산라인을 새롭게 짓기로 결정했다고 7일 공시했다.
투자금액은 자기자본 대비 2.53%다. 시스템반도체 수요 증가에 대응하는 것이 목적이다.
삼성전자 측은 이번 투자에 대해 "300mm 웨이퍼 라인을 통해 20나노와 14나노의 최첨단 공정을 적용한 모바일AP(애플리케이션 프로세서) 제품을 주력으로 생산할 계획"이라고 설명했다.
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