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반도체 EUV 장비 도입 빨라진다…검사기간 34일→9일


정부, 고압가스 규제 완화…장비당 비용 5억 절감
삼성전자·SK하이닉스 첨단라인 구축 속도 기대

[아이뉴스24 박지은 기자] 반도체 핵심 공정에 사용되는 극자외선(EUV) 장비의 국내 도입 절차가 간소화된다.

이에 따라 삼성전자와 SK하이닉스 등 반도체 기업들은 EUV 장비 도입에 걸리는 검사 기간을 최대 25일 줄일 수 있게 됐다.

ASML 홀딩의 EUV 노광 장비 [사진=ASML 홈페이지 캡처]

산업통상부는 2일 국무회의에서 이 같은 내용을 담은 '고압가스 안전관리법 시행령' 일부 개정안이 의결됐다고 밝혔다.

EUV 장비는 인공지능(AI) 반도체와 고대역폭메모리(HBM), 첨단 D램 생산에 필수적인 핵심 장비다.

그동안 EUV 장비 내부에 고압가스 배관과 장치가 포함돼 있다는 이유로 '고압가스 제조설비'로 분류됐다.

이 때문에 장비를 들여올 때마다 기술 검토와 검사를 받아야 했다. 검사와 행정 절차에만 최대 34일이 소요되면서 생산라인 구축 일정이 지연된다는 지적도 제기돼 왔다.

정부는 글로벌 안전기준을 충족한 EUV 장비에 대해서는 기존 고압가스 제조시설이 아닌 '특정설비' 기준을 적용하기로 했다.

이에 따라 장비 도입 시 검사 기간은 기존 34일에서 9일로 단축된다.

해외 공인검사기관에 지급하는 내압·기밀 검사 비용도 장비당 약 5억원 절감될 전망이다.

업계에서는 EUV 장비에 대한 중복 검사 규제가 대표적인 현장 애로사항 중 하나였다고 평가한다.

EUV 장비는 해외에서 이미 안전성을 검증받았음에도 국내 반입 시 추가 기술 검토와 검사를 거쳐야 했다. 이 때문에 장비 반입부터 생산라인 가동까지 일정이 늦어지고 기업 부담도 커진다는 지적이 이어졌다.

특히 삼성전자와 SK하이닉스가 AI 반도체와 HBM 수요 증가에 대응해 생산능력 확대에 나선 상황에서 장비 도입 절차를 합리화해야 한다는 요구가 꾸준히 제기돼 왔다.

김정관 산업통상부 장관이 지난달 27일 정부세종청사 인근에서 열린 출입기자단 만찬 간담회에서 모두발언을 하고 있다. [사진=연합뉴스]

업계에서는 이번 제도 개선이 첨단 생산라인 구축 속도를 높이는 데 도움이 될 것으로 보고 있다.

EUV 장비는 네덜란드 ASML이 사실상 독점 공급하고 있다. 장비 1대 가격이 수천억원에 달하는 만큼 설치와 가동 일정은 생산능력 확대 시점과 직결된다.

특히 삼성전자와 SK하이닉스는 차세대 D램과 HBM 생산능력 확대를 추진하고 있어 이번 규제 완화 효과가 적지 않을 것으로 전망된다.

산업통상부는 이번 제도 개선이 안전 기준을 낮추는 것은 아니라고 설명했다.

EUV 장비를 특정설비로 지정해 3년 주기 공장심사와 종합공정검사를 실시하는 방식으로 기존과 동등한 수준의 안전성을 확보할 계획이다.

김정관 산업통상부 장관은 "이번 법령 개정은 안전 확보와 첨단산업 경쟁력 강화를 동시에 달성하기 위한 대표적인 규제혁신 사례"라며 "앞으로도 글로벌 기준에 부합하는 합리적 안전관리 체계를 통해 첨단산업 투자를 적극 지원하겠다"고 말했다.

/박지은 기자([email protected])




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